磁控濺射鐵磁性靶材增強磁控濺射陰極的磁場

增強濺射陰極磁場的另一種方法是采用高強磁體，通過強磁場飽和更厚的鐵磁性靶材得到靶材表面需要的濺射磁場強度。但是高強磁鐵的價格昂貴，同時采用這種方法增加靶材厚度的效果有限，而且由于強永磁體大小不能改變，這種方法會引起嚴重的等離子體磁聚現象。等離子體磁聚現象的產生使濺射區靶材很快消耗完而不能繼續濺射，從而造成靶材利用率很低。

　　采用電磁線圈來產生高強磁場，通過調節電磁線圈的電流控制磁場大小來抑制等離子體磁聚。但這種方法的磁場裝置復雜而且成本高，同時電磁線圈還受到濺射陰極尺寸的限制，從而使電磁場的強度受到限制，導致鐵磁性靶材的厚度增加有限。

　　還可以采用永磁體與電磁體復合的方法解決等離子體磁聚的問題，在不同的濺射過程中調節電磁線圈，以產生大小合適的電磁場。這種方法的缺點是電磁源裝置復雜，電磁線圈的使用也增加了設備成本和使用成本。