真空鍍膜是什么？

科技名詞定義
中文名稱：真空鍍膜 英文名稱：vacuum deposition 定義：在真空條件下，對(duì)光學(xué)零件鍍膜的工藝過程。 所屬學(xué)科：機(jī)械工程（一級(jí)學(xué)科）；光學(xué)儀器（二級(jí)學(xué)科）；光學(xué)儀器一般名詞（三級(jí)學(xué)科） 本內(nèi)容由全國科學(xué)技術(shù)名詞審定委員會(huì)審定公布
百科名片
 真空鍍膜一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片（光盤）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜.

真空鍍膜安全操作規(guī)程展開 簡介
　　真空鍍膜 　　在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。